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SK하이닉스가 생산 효율을 높이기 위해 중국 우시(无锡) 공장 개량 계획을 추진했으나 미국 정부의 반대에 부딪힌 것으로 알려졌다.
18일 로이터통신에 따르면, SK하이닉스는 생산 효율성 제고를 위해 중국 우시 공장에 네덜란드 기업 ASML이 생산한 첨단 극자외선(EUV)칩 제조 장비를 도입해 공장 생산 설비를 대규모 업그레이드할 계획이었으나 미국 정부가 이에 제동을 걸었다. 첨단 장비가 중국으로 투입되면 군사력 강화에 이용될 수 있다는 우려 때문이다.
백악관 고위 관계자는 미국 정부가 SK하이닉스의 EUV 장비 중국 도입을 허용할 지 여부에 대해 구체적인 언급을 피했으나 바이든 정부는 여전히 중국이 미국과 동맹국의 기술을 이용해 최첨단 반도체 제조와 군사 현대화 실현을 하는 것을 막기 위해 주력하고 있다고 로이터 통신은 전했다.
SK하이닉스 우시 공장은 SK하이닉스의 절반에 달하는 DRAM 생산 공장으로 전 세계 물량의 15%를 생산하고 있다.
한 SK하이닉스 인사는 “2~3년 후 신형 칩은 SK하이닉스의 생산에서 더 큰 비중을 차지할 것”이라며 “EUV 기계로 원가 통제와 생산량 증가를 할 필요가 있다”고 말했다.
미국의 반대가 향후 수년간 지속되고 이 문제가 해결되지 않는다면 SK하이닉스는 메모리 반도체 경쟁에서 삼성전자, 마이크론 등 경쟁사에 밀릴 수 있다는 우려가 제기된다. 이에 앞서 삼성과 마이크론도 ASML의 EUV 설비에 눈을 돌렸으나 수출 규제가 되고 있는 공장에는 사용하지 않겠다는 입장을 밝힌 바 있다.
소식통에 따르면, ASML 설비 문제는 SK하이닉스 내에서도 주목을 받고 있는 이슈로 이에 앞서 지난 7월 이석희 SK하이닉스 최고경영자(CEO)의 워싱턴DC 방문 시 미국 정부에 이 문제를 의논한 것으로 알려졌다.
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